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J-GLOBAL ID:200903070166683339

光硬化型シリコン被覆組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 青山 葆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992348574
Publication number (International publication number):1993295326
Application date: Dec. 28, 1992
Publication date: Nov. 09, 1993
Summary:
【要約】【目的】 光硬化型シリコン被覆組成物およびその被覆方法を提供するものである。【構成】 (イ)原樹脂分散液中の固形成分総重量に対して、コロイドシリカ5〜75重量%と一般式RSi(OH)3[ここで、RはC1-6のアルキル、C6-20のアリールおよび水酸基から選択される]で表されるシラノールの部分縮合物25〜95重量%を含む水性アルコール性原樹脂分散液および(ロ)原樹脂分散液中の固形成分100重量部に対して0.001〜0.02重量部の一般式Ar3S+MXn-[ここで、Ar3はトリフェニル、トリ(4-メトキシフェニル)、トリ(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)、ジフェニル-2、5-ジメチルフェニル、またはトリ(4-メチルフェニル)基であり、MXn-はハロゲン化金属陰イオンである]で表される光硬化型触媒を含むことを特徴とする光硬化型シリコン被覆組成物。
Claim (excerpt):
(イ)原樹脂分散液中の固形成分総重量に対して、コロイドシリカ5〜75重量%と一般式RSi(OH)3[ここで、RはC1-6のアルキル、C6-20のアリールおよび水酸基から選択される]で表されるシラノールの部分縮合物25〜95重量%を含む水性アルコール性原樹脂分散液および(ロ)原樹脂分散液中の固形成分100重量部に対して0.001〜0.02重量部の一般式Ar3S+MXn-[ここで、Ar3はトリフェニル、トリ(4-メトキシフェニル)、トリ(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)、ジフェニル-2、5-ジメチルフェニル、またはトリ(4-メチルフェニル)基であり、MXn-はハロゲン化金属陰イオンである]で表される光硬化型触媒を含むことを特徴とする光硬化型シリコン被覆組成物。
IPC (7):
C09D183/04 PMU ,  C09D183/04 PMT ,  C08J 7/04 ,  C08K 3/36 LRX ,  C08K 5/36 ,  C08L 83/04 LRV ,  G02B 1/10

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