Pat
J-GLOBAL ID：200903070176403504

抗菌性低刺激化粧料

Inventor：
荒島 雅樹

About 荒島 雅樹

, 
高宮 ます美

About 高宮 ます美


Applicant, Patent owner：
株式会社ノエビア

About 株式会社ノエビア


Agent (1)： 小川 篤子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997022206
Publication number (International publication number)：1998203955
Application date： Jan. 20, 1997
Publication date： Aug. 04, 1998
Summary：
【要約】【目的】 優れた抗菌作用を有し、且つ皮膚に対し一次刺激性や感作性を示さないだけではなく、化粧料使用時の刺すような痛みやヒリヒリ感,チクチク感といった不快感をも与えない化粧料を得る。【構成】 シナノキ属植物、特にフユボダイジュ(Tilia cordata Mill.,Tiliaulmifolia Scop.,Tilia parvifolia Ehrh.),ナツボダイジュ(Tilia platyphyllos Scop.,Tilia grandifolia Ehrh.),セイヨウシナノキ( Tilia europaeaL.)から選ばれる1種又は2種以上の植物抽出物と、多価アルコール及び多価アルコールのアルキルエーテルより選ばれる1種又は2種以上を併用し含有させて成る。
Claim (excerpt)：
多価アルコール及び多価アルコールのアルキルエーテルより選ばれる1種又は2種以上と、シナノキ属植物の抽出物を併用することを特徴とする、抗菌性低刺激化粧料。
IPC (2)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00
FI (4)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 W
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (13)
Show all
Cited by examiner (21)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM