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J-GLOBAL ID:200903070176403504

抗菌性低刺激化粧料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小川 篤子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997022206
Publication number (International publication number):1998203955
Application date: Jan. 20, 1997
Publication date: Aug. 04, 1998
Summary:
【要約】【目的】 優れた抗菌作用を有し、且つ皮膚に対し一次刺激性や感作性を示さないだけではなく、化粧料使用時の刺すような痛みやヒリヒリ感,チクチク感といった不快感をも与えない化粧料を得る。【構成】 シナノキ属植物、特にフユボダイジュ(Tilia cordata Mill.,Tiliaulmifolia Scop.,Tilia parvifolia Ehrh.),ナツボダイジュ(Tilia platyphyllos Scop.,Tilia grandifolia Ehrh.),セイヨウシナノキ( Tilia europaeaL.)から選ばれる1種又は2種以上の植物抽出物と、多価アルコール及び多価アルコールのアルキルエーテルより選ばれる1種又は2種以上を併用し含有させて成る。
Claim (excerpt):
多価アルコール及び多価アルコールのアルキルエーテルより選ばれる1種又は2種以上と、シナノキ属植物の抽出物を併用することを特徴とする、抗菌性低刺激化粧料。
IPC (2):
A61K 7/48 ,  A61K 7/00
FI (4):
A61K 7/48 ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 W
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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