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J-GLOBAL ID:200903070179226662

電子ビーム走査装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 井桁 貞一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992295907
Publication number (International publication number):1993251316
Application date: Nov. 05, 1992
Publication date: Sep. 28, 1993
Summary:
【要約】【目的】隣接する照射領域からの反射電子の飛び込みを積極的に回避し、あるいは、飛び込みに起因するS/N比の悪化を補償して検出精度を十分に高めることを目的とする。【構成】先端が鋭く尖った微細電極と該微細電極の先端部を取り囲むようにして配置されたゲートとをペアにしてマトリクス状に配列する多数の電子エミッタ部と、前記電子エミッタ部ごとの収束電極、偏向電極及び検出器とを備え、各電子エミッタ部からの電子ビームを平行且つ同時に引出して試料表面に照射し、試料表面からの反射電子または2次電子を電子ビームごとに前記検出器の検知面で捕捉し、該捕捉反射電子の量または捕捉2次電子の量に基づいて試料表面の状態を検査する電子ビーム走査装置において、前記試料表面と検知面との間であって、且つ、前記試料表面から検知面までの距離と検知面のサイズとから割り出される所定位置に、電子ビームの軸と開口中心が一致する所定内径の穴開きマスクを配置したことを特徴とする。
Claim (excerpt):
先端が鋭く尖った微細電極と該微細電極の先端部を取り囲むようにして配置されたゲートとをペアにしてマトリクス状に配列する多数の電子エミッタ部と、前記電子エミッタ部ごとの収束電極、偏向電極及び検出器とを備え、各電子エミッタ部からの電子ビームを平行且つ同時に引出して試料表面に照射し、試料表面からの反射電子または2次電子を電子ビームごとに前記検出器の検知面で捕捉し、該捕捉反射電子の量または捕捉2次電子の量に基づいて試料表面の状態を検査する電子ビーム走査装置において、前記試料表面と検知面との間であって、且つ、前記試料表面から検知面までの距離と検知面のサイズとから割り出される所定位置に、電子ビームの軸と開口中心が一致する所定内径の穴開きマスクを配置したことを特徴とする電子ビーム走査装置。
IPC (4):
H01L 21/027 ,  G01B 15/00 ,  G01R 31/302 ,  H01J 37/305
FI (3):
H01L 21/30 341 B ,  G01R 31/28 L ,  H01L 21/30 341 W
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
  • 特開昭51-048975
  • 特開昭57-076837
  • 特開昭59-184524
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