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J-GLOBAL ID:200903070217622810

露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 平木 祐輔 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996176233
Publication number (International publication number):1998022203
Application date: Jul. 05, 1996
Publication date: Jan. 23, 1998
Summary:
【要約】【課題】 1台の露光装置でステップ・アンド・スキャン方式による露光モードとステップ・アンド・リピート方式による露光モードとを切り換えて実行できる露光装置を提供する。【解決手段】 ステップ・アンド・スキャン方式の露光モードのときスキャン方向がステージ移動質量の軽い方向に一致するように、基板ステージの配置、アライメント系の配置等を設定する。ステップ・アンド・リピート方式の露光モードが選択されると、ショットの縦横サイズと基板ステージのX方向及びY方向の移動性能から演算手段によってステップ時間の短いステッピング方向を求め(S2)、ステップ時間の短い方向をステップ方向に設定し(S4,S5)、ステージ移動のシーケンスを決定して(S6)、露光を行う。
Claim (excerpt):
レチクルに形成されたパターンを感光基板上のショット領域に投影する投影光学系と、前記感光基板を載置して第1方向及び該第1方向と直交する第2方向に移動可能な基板ステージとを含む露光装置において、前記第1方向に移動するときの前記基板ステージの第1移動性能と前記第2方向に移動するときの前記基板ステージの第2移動性能とを記憶した記憶手段と、前記ショット領域の前記第1方向のサイズ及び前記第2方向のサイズに関係するパラメータを入力する入力手段と、前記基板ステージの第1移動性能及び第2移動性能と、前記ショット領域の前記第1方向のサイズ及び前記第2方向のサイズに関係するパラメータとに基いて、前記ショット領域間を前記第1方向へステップ移動する際のステップ時間及び前記第2方向へのステップ移動する際のステップ時間を演算する演算手段と、前記演算手段によって演算された前記第1方向へのステップ時間及び前記第2方向へのステップ時間のうちステップ時間の短い方向へ前記基板ステージを移動させる制御手段とを備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (4):
H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 516 B

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