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J-GLOBAL ID:200903070219910235

ポリスチレン系積層フィルム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994055877
Publication number (International publication number):1995256833
Application date: Mar. 25, 1994
Publication date: Oct. 09, 1995
Summary:
【要約】【目的】 本発明はポリスチレン系積層フィルム、詳しく言えば光学特性が良好で、且つ耐熱性に優れた延伸されたシンジオタクチックポリスチレン系樹脂含有積層フィルム関するものである。【構成】 シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系重合体を含有する樹脂組成物からなる層および配向に伴い正の複屈折を示す樹脂組成物からなる層を含む延伸されたフィルムであって、レターデーションが500nm 以下であることを特徴とするポリスチレン系積層フィルム。
Claim (excerpt):
シンジオタクチック構造を有するポリスチレン系重合体を含有する樹脂組成物からなる層および配向に伴い正の複屈折を示す樹脂組成物からなる層を含む延伸されたフィルムであって、レターデーションが500nm 以下であることを特徴とするポリスチレン系積層フィルム。
IPC (5):
B32B 27/30 ,  B29C 55/14 ,  B32B 7/02 103 ,  B29K 25:00 ,  B29L 9:00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
  • 特開平1-262132
  • 特開平1-262132
  • 特開平1-316246
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