セラミックシンチレータの製造方法、セラミックシンチレータ、シンチレータブロック、X線検出器およびX線CT撮像装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999275163
Publication number (International publication number)：2000171563
Application date： Sep. 28, 1999
Publication date： Jun. 23, 2000
Summary：

【要約】【課題】焼結時の圧力、歪み、化学量論組成のずれ等により発生する着色と、ダイシング等の加工時に発生する着色とを全面的に除去する。【解決手段】希土類オキシ硫化物焼結体を、イオウと酸素の混合雰囲気中で900°C〜1200°Cの温度により熱処理を施し、焼結体の表面に島状の希土類酸化物相を形成することにより、セラミックシンチレータを製造する。したがって、このセラミックシンチレータは、希土類オキシ硫化物からなる焼結体と、この焼結体の表面に形成された希土類酸化物相と、を備え、かつ、前記焼結体の前記表面で希土類硫化物相または前記希土類酸化物相が分散状態にあることになり、光出力特性が改善される。

Claim (excerpt)：

SO2およびSO3の少なくとも1種を生成するステップと;SO2およびSO3の少なくとも1種と希土類オキシ硫化物からなる焼結体とを900〜1200°Cで反応させるステップと;前記ステップの反応により前記焼結体の表面に希土類酸化物相を形成するステップと;を備えることを特徴とするセラミックシンチレータの製造方法。

IPC (5)：

G01T 1/202 , C09K 11/00 , C09K 11/08 , C09K 11/84 CPD , G01T 1/20

FI (5)：

G01T 1/202 , C09K 11/00 E , C09K 11/08 B , C09K 11/84 CPD , G01T 1/20 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

セラミックシンチレータ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-359890 Applicant：株式会社東芝

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