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J-GLOBAL ID：200903070277045200

レーザ光走査方法

Inventor： 江部 宏樹
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996187453
Publication number (International publication number)：1998029079
Application date： Jul. 17, 1996
Publication date： Feb. 03, 1998
Summary：

【要約】【課題】 平面状の所定パターンを描画するために行われるレーザ光の走査を、短時間で行うことができるレーザ光走査方法を提供する。【解決手段】 互いに直交するX軸方向及びY軸方向に平行移動可能なXYステージ上に被加工物を配し、被加工物をXYステージによって移動させながら、回転するポリゴンミラーにレーザ光を照射し、その反射光を被加工物上において走査させる。

Claim (excerpt)：

互いに直交するX軸方向及びY軸方向に平行移動可能なXYステージ上に被加工物を配し、被加工物をXYステージによって移動させながら、回転するポリゴンミラーにレーザ光を照射し、その反射光を被加工物上において走査させることを特徴とするレーザ光走査方法。

IPC (5)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/08 ,  G02B 26/10 102 ,  G02F 1/1337 ,  G03F 7/00 505

FI (5)：

B23K 26/00 B ,  B23K 26/08 F ,  G02B 26/10 102 ,  G02F 1/1337 ,  G03F 7/00 505