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J-GLOBAL ID：200903070283437330

電磁波吸収体およびその製造方法、ならびに電子機器

Inventor： 猪俣 浩二 ,  岸 隆 ,  野沢 和雄 ,  岩淵 喜悦 ,  菅原 利明 ,  太田 栄治
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998322008
Publication number (International publication number)：2000196281
Application date： Nov. 12, 1998
Publication date： Jul. 14, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 難燃性と高い電磁波吸収性を有するフイルム状の電磁波吸収体およびその製造方法。【解決手段】 軟磁性体と高分子結合剤を主体とする電磁波吸収層2を有する電磁波吸収体で、高分子結合剤は、数平均分子量が25,000以上であるとともに、分子中の芳香族成分が15重量%以上とする。製造方法は、支持体1上に、軟磁性粒子と高分子結合剤を主体とする磁性塗料を塗布および乾燥して電磁波吸収層を形成する。

Claim (excerpt)：

軟磁性粒子と高分子結合剤を主体とする電磁波吸収層を有する電磁波吸収体であって、前記高分子結合剤は、数平均分子量が25,000以上であるとともに、分子中の芳香族成分が15重量%以上であることを特徴とする電磁波吸収体。

F-Term (5)：

5E321BB23 ,  5E321BB32 ,  5E321BB51 ,  5E321GG11 ,  5E321GH10