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J-GLOBAL ID：200903070288581545

新規なエステル化合物

Inventor： 原田 裕次 ,  畠山 潤 ,  河合 義夫 ,  大谷 充孝 ,  宮澤 覚 ,  堤 憲太郎 ,  前田 一彦
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社 ,  セントラル硝子株式会社
Agent (1)： 小島 隆司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002182404
Publication number (International publication number)：2003226689
Application date： Jun. 24, 2002
Publication date： Aug. 12, 2003
Summary：

【要約】【解決手段】 下記一般式(1)で示されるエステル化合物。【化1】(式中、R1はフッ素原子又は少なくとも1個以上のフッ素原子を有する炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基である。R2は水素原子、フッ素原子、又は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又はフッ素化アルキル基を示す。R3及びR4はそれぞれ単結合もしくは炭素数1〜20のアルキレン基を示す。)【効果】 本発明のエステル化合物をモノマーとして製造した樹脂を用いたレジスト材料は、透明性に優れると共に基板密着性に優れているため、電子線や遠紫外線、特にF2エキシマレーザーによる微細加工に有用である。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるエステル化合物。【化1】(式中、R1はフッ素原子又は少なくとも1個以上のフッ素原子を有する炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基である。R2は水素原子、フッ素原子、又は炭素数1〜15の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基又はフッ素化アルキル基を示す。R3及びR4はそれぞれ単結合もしくは炭素数1〜20のアルキレン基を示す。)

IPC (7)：

C07D307/33 ,  C07D307/93 ,  C07D309/30 ,  C07D493/18 ,  C07D495/18 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601

FI (7)：

C07D307/93 ,  C07D309/30 D ,  C07D493/18 ,  C07D495/18 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/039 601 ,  C07D307/32 Q

F-Term (21)：

2H025AA14 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BG00 ,  4C037FA10 ,  4C062BB60 ,  4C071AA03 ,  4C071BB02 ,  4C071CC11 ,  4C071CC21 ,  4C071EE13 ,  4C071FF14 ,  4C071KK11 ,  4C071LL03 ,  4J100AL26P ,  4J100BA11P ,  4J100BA51P ,  4J100BC53P ,  4J100CA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 高分子化合物、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-030542   Applicant：信越化学工業株式会社
• 化学増幅型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-332641   Applicant：住友化学工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Construction of Trifluoromethylated Quarternary Carbons via Diels-Alder Reactions of 2-(Trifluoromet