Pat

J-GLOBAL ID：200903070346898490

2次元および3次元フォトニック結晶の作製方法

Inventor： 石井 哲好 ,  納富 雅也 ,  玉村 敏昭 ,  野澤 博
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 谷 義一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999137676
Publication number (International publication number)：2000284136
Application date： May. 18, 1999
Publication date： Oct. 13, 2000
Summary：

【要約】【課題】 2次元および3次元フォトニック結晶の作製方法を提供。【解決手段】 2次元フォトニック結晶の作製方法は、基板に周期的な2次元配置の微細構造を作製する工程と、屈折率n1を有する材料からなる薄膜を該微細構造上に形成する工程と、該薄膜を該微細構造に押し込む工程とを有する。また、3次元フォトニック結晶の作製方法は、屈折率n1を有する第1の材料からなる第1の薄膜を形成する工程と、該第1の薄膜に所定の微細構造を有する型を押し当てて刻印する工程と、第1の薄膜上に、屈折率n2を有する第2の材料からなる第2の薄膜を積層する工程と、2の薄膜に所定の微細構造を有する型を押し当てて刻印する工程と、を少なくとも1回繰り返すことで積層体構造を形成することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

基板上に薄膜が積層されてなる積層体構造を有するフォトニック結晶の作製方法であって、該基板に周期的な2次元配置の微細構造を作製する工程と、屈折率n1を有する材料からなる薄膜を該微細構造上に形成する工程と、該薄膜を該微細構造に押し込む工程と、を有することを特徴とする2次元フォトニック結晶の作製方法。

F-Term (9)：

2H047KA00 ,  2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047QA01 ,  2H047QA04 ,  2H047QA05 ,  2H047TA00 ,  2H047TA43