Pat

J-GLOBAL ID：200903070374005611

物体の表面処理方法

Inventor： 世田 博國 ,  蛭田 八代栄 ,  小田切 耀 ,  加藤 宏太郎 ,  新野 一司 ,  木村 文人
Applicant, Patent owner： 株式会社シンクロン ,  株式会社那須ニコン ,  株式会社ニコン
Agent (1)： 臼村 文男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992297976
Publication number (International publication number)：1994122776
Application date： Oct. 09, 1992
Publication date： May. 06, 1994
Summary：

【要約】【構成】 予め表面にSiO2 等の酸化物薄膜を形成した被処理物体53を、真空槽41内に入れ、真空排気する。ヒータ13で容器15内のフルオロアルキルシラン等の低表面エネルギー性物質15を加熱し、バルブ21を開けて低表面エネルギー性物質15を真空槽41内に導き、放電電極45により放電を起こし、プラズマ雰囲気下に被処理物体53を低表面エネルギー性物質15で表面処理する。【効果】 表面がMgF2 のメガネレンズ等の光学部材、金属などを、溶剤を使わない乾式法で表面処理することにより、物体表面に耐久性に優れた高い撥水性を付与できる。

Claim (excerpt)：

低表面エネルギー性物質を気化せしめ、予め表面に酸化物薄膜が形成された被処理物体の表面に、気化した低表面エネルギー性物質を接触させ、被処理物体の表面上に酸化物薄膜を介して低表面エネルギー性被膜を形成することを特徴とする物体の表面処理方法。

IPC (7)：

C08J 7/04 ,  B01J 19/08 ,  C03C 17/28 ,  C03C 17/30 ,  C04B 41/83 ,  C08J 7/00 306 ,  G02B 1/10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭63-135435
  
• 特開昭59-001505
  

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-135435
  
• 特開昭63-135435
  
• 特開昭59-001505
  
• 特開昭59-001505