Pat

J-GLOBAL ID：200903070420275769

プラズマ発生装置

Inventor： 林 茂則 ,  寺本 聡 ,  伊藤 健二 ,  山崎 舜平
Applicant, Patent owner： 株式会社半導体エネルギー研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994014886
Publication number (International publication number)：1995211655
Application date： Jan. 13, 1994
Publication date： Aug. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】 大面積プラズマを簡単な排気装置で生じさせる。【構成】 同軸円筒状に構成された中心電極(11)と外側電極(29)とその隙間に挿入された円筒状絶縁物(13)とを有し、中心電極(11)と円筒状絶縁物(13)との隙間、及び円筒状絶縁物(13)と外側電極(29)との隙間にガスを流し、中心電極(11)と外側電極(29)との間で放電を起こす。この際ガスとしてヘリウム等の稀ガスを主体とするガスを用いることで、5〜150Torr程度の中圧力でプラズマを生じさせることができる。そして、前記稀ガスに反応性気体を添加することで、各種プラズマ気相反応を行うことができる。

Claim (excerpt)：

同軸状に形成された外側電極と中心電極とを有し、前記外側電極と中心電極との隙間には円筒状の絶縁体が挿入されており、前記外側電極と前記絶縁体との第1の隙間をガスが流れる構成を有し、前記絶縁体と前記中心電極との第2の隙間をガスが流れる構成を有し、前記第1の隙間と第2の隙間には異なる種類のガスが添加された稀ガスを主体としたガスが流されること特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (5)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46