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J-GLOBAL ID:200903070426653935

はっ水性被膜、及びその形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 杉村 興作 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001177046
Publication number (International publication number):2002363501
Application date: Jun. 12, 2001
Publication date: Dec. 18, 2002
Summary:
【要約】【課題】 高いはっ水性を有する膜を提供すること、及び該膜を低温で得られる方法を提供することにある。【解決手段】 本発明のはっ水性被膜は、複数の微細孔を有する膜であって、微細孔のアスペクト比が0.1以上である膜と、前記膜上の疎水性膜と、からなることを特徴とする。また、本発明のはっ水性被膜の形成方法は、2以上の高分子物質を基体上に被膜することにより、基体上に混合高分子膜を形成し、前記混合高分子膜から少なくとも1の前記高分子物質を除去することにより、複数の微細孔を有する膜を形成し、前記複数の微細孔を有する膜上に疎水性膜を形成することからなることを特徴とする。
Claim (excerpt):
複数の微細孔を有する膜であって、微細孔のアスペクト比が0.1以上である膜と、前記膜上の疎水性膜と、からなるはっ水性被膜。
IPC (5):
C09D201/00 ,  B32B 5/18 ,  C09D125/06 ,  C09D157/00 ,  C09K 3/18 101
FI (5):
C09D201/00 ,  B32B 5/18 ,  C09D125/06 ,  C09D157/00 ,  C09K 3/18 101
F-Term (32):
4F100AK01A ,  4F100AK02A ,  4F100AK04A ,  4F100AK12A ,  4F100AK15A ,  4F100AK25A ,  4F100AK52B ,  4F100BA02 ,  4F100DJ00A ,  4F100DJ10A ,  4F100GB07 ,  4F100GB32 ,  4F100JB06 ,  4F100JB06B ,  4F100JM02A ,  4F100JM02B ,  4H020BA02 ,  4J038CB021 ,  4J038CC031 ,  4J038CD031 ,  4J038CG141 ,  4J038CH031 ,  4J038JA02 ,  4J038JA26 ,  4J038JA33 ,  4J038MA07 ,  4J038MA09 ,  4J038NA07 ,  4J038PA15 ,  4J038PB05 ,  4J038PB07 ,  4J038PC08
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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