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J-GLOBAL ID：200903070437461744

揮発性元素を含む炭化水素燃料の生成ガス浄化システム

Inventor： 小山 俊太郎 ,  高橋 貞夫 ,  田中 真二 ,  森原 淳
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997066052
Publication number (International publication number)：1998259385
Application date： Mar. 19, 1997
Publication date： Sep. 29, 1998
Summary：

【要約】【課題】揮発性元素を含む炭化水素燃料から生成したガスの浄化システムにおいて、揮発性元素により機器が腐食したり、環境汚染が生じるのを防止する。【解決手段】ガス化工程,熱回収工程,脱塵工程からなるシステムにおいて、ガス化工程で生成したガスに無機化合物粒子と炭素含有粒子を添加する工程を設ける。そして、ガス化工程で発生したダストと無機化合物粒子とを分別して、ダストと炭素含有粒子のみをガス化工程に戻す。【効果】揮発性元素がシステム系内に蓄積することなく、効率よく除去できる。これにより、揮発性元素の付着による材料腐食を防止できる。また、環境汚染も防止できる。

Claim (excerpt)：

揮発性元素を含む炭化水素燃料のガス化工程,該ガス化工程で得られた生成ガスからの熱回収工程,前記ガス化工程で発生したダストの回収を含む脱塵工程を有する生成ガス浄化システムにおいて、前記ガス化工程で得られた生成ガス中に揮発性元素或いはその化合物に対して親和性のある無機化合物粒子と炭素含有粒子とを添加する工程を含み、前記脱塵工程において該無機化合物粒子と該炭素含有粒子及びダストを除去するようにしたことを特徴とする揮発性元素を含む炭化水素燃料の生成ガス浄化システム。

IPC (5)：

C10J 3/46 ,  C10J 3/00 ,  C10J 3/02 ,  C10K 1/20 ,  C10K 1/32

FI (9)：

C10J 3/46 J ,  C10J 3/46 K ,  C10J 3/00 S ,  C10J 3/00 F ,  C10J 3/00 G ,  C10J 3/02 J ,  C10J 3/02 K ,  C10K 1/20 ,  C10K 1/32