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J-GLOBAL ID：200903070440640110

陽極酸化装置及び陽極酸化方法

Inventor： 小沼 利光 ,  菅原 彰 ,  上原 由起子
Applicant, Patent owner： 株式会社半導体エネルギー研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994074023
Publication number (International publication number)：1995263437
Application date： Mar. 17, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】 基板上の薄膜金属に対し陽極酸化を行う際に、膜質および膜厚の基板面内、多数基板間における均一化を図る。【構成】 陰極電極と、陽極配線と、前記陽極配線と電気的に接続された薄膜金属と、前記陰極電極と前記薄膜金属との間に流出される陽極酸化液とを有し、前記陽極酸化液は、前記陰極電極と前記陽極配線とを電気的に接続している。また薄膜金属を回転面上に設ける。

Claim (excerpt)：

陰極電極と、陽極配線と、前記陽極配線と電気的に接続された薄膜金属と、前記陰極電極と前記薄膜金属との間に流出される陽極酸化液とを有し、該陽極酸化液は、前記陰極電極と前記陽極配線とを電気的に接続していること、を特徴とする陽極酸化装置。

IPC (2)：

H01L 21/316 ,  H01L 29/40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭62-299036
  
• 陽極酸化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-267737   Applicant：富士通株式会社