流動解析を用いた光学素子の製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：江原省吾 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000175346
Publication number (International publication number)：2001277323
Application date： Jun. 12, 2000
Publication date： Oct. 09, 2001
Summary：

【要約】【課題】特に、厚肉の光学部品を樹脂成形によって製作する場合において、成形時に加わるせん断応力によって生じる成形後の光学特性変化を、数値的に推定ないし算出して求め、設定値および成形条件を最適化する方法を提供する。【解決手段】溶融素材を型内に射出注入し、型内での保圧、冷却を行った後に取出しを行う光学素子の製造方法において、型内の光学素子を複数の3次元有限要素に分割し、金型温度や金型内の温度勾配等の成形条件をパラメータとして、3次元の有限要素法により、各要素の成形時のせん断応力を求め、せん断応力に対する緩和の定性的な関係より成形後の残留歪み、屈折率分布、屈折率変動による像面湾曲、複屈折、偏光特性、透過波面等の特性を求め、これに基づいて、設計値および成形条件を修正する。

Claim (excerpt)：

溶融素材を型内に射出注入し、型内での保圧、冷却を行った後に取出しを行う光学素子の製造方法において、型内の光学素子を複数の3次元有限要素に分割し、金型温度を含む成形条件をパラメータとして、3次元の有限要素法を用いた流動解析により、各要素の成形時のせん断応力を求めることにより、せん断応力の累積結果として決まる残留歪みが少なくなる成形条件を決定することを特徴とする流動解析を用いた光学素子の製造方法。

IPC (7)：

B29C 45/76 , B29C 45/26 , B29C 45/78 , G02B 3/00 , G06F 17/50 612 , G06F 17/50 680 , B29L 11:00

FI (7)：

B29C 45/76 , B29C 45/26 , B29C 45/78 , G02B 3/00 Z , G06F 17/50 612 H , G06F 17/50 680 A , B29L 11:00

F-Term (27)：

4F202AE10 , 4F202AH73 , 4F202AM23 , 4F202AR14 , 4F202AR15 , 4F202CA11 , 4F202CB01 , 4F202CD03 , 4F202CK06 , 4F202CS10 , 4F206AE10 , 4F206AH73 , 4F206AM23 , 4F206AR014 , 4F206AR064 , 4F206AR14 , 4F206AR15 , 4F206JA07 , 4F206JL09 , 4F206JN25 , 4F206JP13 , 4F206JP17 , 4F206JP30 , 5B046AA05 , 5B046DA08 , 5B046GA01 , 5B046JA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

射出成形プロセスのシミュレーション方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-092186 Applicant：キヤノン株式会社
成形装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-111321 Applicant：コニカ株式会社
射出成形における金型温度分布制御方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-133814 Applicant：株式会社日本製鋼所

Show all

Return to Previous Page