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J-GLOBAL ID：200903070446064839

レーザエッチング方法及びその装置

Inventor： ヤコブ アキライネル
Applicant, Patent owner： シャブローネン テクニーク クフスタイン ゲーエムベーハー
Agent (1)： 吉田 研二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993241844
Publication number (International publication number)：1994206295
Application date： Sep. 28, 1993
Publication date： Jul. 26, 1994
Summary：

【要約】【目的】 円形テンプレートのレーザエッチングにおいてそのエッチングパターンをより鋭利にかつ正確に形成可能なレーザエッチング方法及び装置を提供する。【構成】 レーザ光4によって、中空シリンダ8上にあるラッカ層8aが、所定のパタン領域内で浸食される。パタン領域内のラッカ層8aの浸食は、レーザ光4が連続的に照射されることにより起こる;この場合、レーザ光4は、12μsから30μsの時間間隔以内に、各パタン領域の端でオフされる。金属スクリーン8に反射されて、レーザ経路に戻ってくる放射線は、レーザ経路から除去され、よってレーザ光4のオフが短時間で起きるので、その結果、鋭利なエッジのパタン構造ができる。

Claim (excerpt)：

レーザ光を使用して、円形テンプレートをエッチングする方法であって、中空シリンダ状の回転金属スクリーン上にあるラッカ層が所定のパタン領域に浸食され、前記パタン領域内の前記ラッカ層は、前記レーザ光が連続的に照射されることで浸食され、前記レーザ光は、12μsから30μs以内の時間間隔で、前記各パタン領域の端でオフされ、前記回転金属スクリーンで反射されてレーザ経路に戻る放射線が、レーザ経路から除去されることを特徴とするレーザエッチング方法。

IPC (3)：

B41C 1/05 ,  B23K 26/00 ,  C23F 4/04