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J-GLOBAL ID：200903070453171241

光導波路とその製造方法

Inventor： 大野 一茂 ,  中村 正則
Applicant, Patent owner： イビデン株式会社
Agent (1)： 小川 順三 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992198430
Publication number (International publication number)：1994043331
Application date： Jul. 24, 1992
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】 光学特性のうちでも耐光損傷性をとくに向上させるとともに、この導波路に高機能性を付与すること。【構成】 LN/LT導波路のLiNbO3単結晶薄膜中に、H、Be、B、C、Si、N、Pのうちから選ばれる少なくとも1種または2種以上を注入もしくはこの薄膜中の構成元素の一部と交換し、これにより、LN/LT導波路の光学特性のうち、耐光損傷性をさらに向上させることができ、そして、この導波路のδno/δneを1に近づけて高機能性を付与する。

Claim (excerpt)：

タンタル酸リチウム単結晶基板上にニオブ酸リチウム単結晶薄膜が形成してなる光導波路の、そのニオブ酸リチウム単結晶薄膜中に、H、Be、B、C,Si、NおよびPのうちから選ばれる少なくとも1種または2種以上の元素を含有することを特徴とする光導波路。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-012095
  
• 特開昭53-106700
  
• 特開昭62-050706