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J-GLOBAL ID：200903070469643542

表面処理方法及び装置

Inventor： 水島 宜彦 ,  高岡 秀嗣 ,  稲崎 聡
Applicant, Patent owner： 浜松ホトニクス株式会社
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992050633
Publication number (International publication number)：1993251415
Application date： Mar. 09, 1992
Publication date： Sep. 28, 1993
Summary：

【要約】【目的】 より良好な光処理技術を提供する。【構成】 この装置は、エキシマレーザの光源120と、試料片110が置かれたチャンバー130とを有する。光源120には、活性な原子状の水素を発生させる為に必要な光子エネルギーを有する波長270nm以下のエキシマレーザが用いられている。チャンバー130は、合成石英またはMgF2 結晶でできたUV透過窓130aから光源120の光を入射し、試料片110の表面に照射されるようになっている。また、チャンバー130には、雰囲気ガスである水素H2を導入するとともに内部に溜ったガスを排気するようになっている。

Claim (excerpt)：

処理対象を水素雰囲気中に置き、水素分子を解離させる紫外光を前記処理対象に照射することを特徴とする表面処理方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-288432
  
• 特開平1-317347
  
• 特開昭61-087338