水処理装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：潮谷奈津夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997075907
Publication number (International publication number)：1998263566
Application date： Mar. 27, 1997
Publication date： Oct. 06, 1998
Summary：

【要約】【課題】既存の浄水システムに併合可能で、異なる処理プロセスであるオゾン処理と活性炭処理を同時に備えたコンパクトな浄水処理装置を供給する。【解決手段】オゾン化ガス吹き込み管3を備えたオゾン反応槽4と、活性炭層18と粒状媒体層19と支持板20からなるろ層を備えたろ過室25と、ろ層の閉塞とともに流量調節される流量調節弁12と、ろ層に堆積した閉塞物質を逆洗洗浄するための逆洗弁13と逆洗水槽15等の逆洗装置とを設けることにより、オゾン処理と活性炭処理が同時に行え、且つ、処理装置の維持管理が容易となる。

Claim (excerpt)：

矩形または円筒形のオゾン反応槽と、オゾン反応槽に近接して設けられた矩形または円筒形のろ過槽と、前記オゾン反応槽と前記ろ過槽とを接続して前記オゾン反応槽内の被処理水を前記ろ過槽内に流させる導管とからなっており、前記オゾン反応槽には、被処理水をオゾン反応槽内に供給する流入管と、一端がオゾン反応槽の上部で流入管と接続され他端がオゾン反応槽内の下部に位置するように鉛直下向きに配置された下降管と、前記オゾン反応槽上部に位置してオゾン反応槽内の排ガスを排出する排気口と、前記流入管または前記下降管に取り付けられたオゾンを含むガスを被処理水中に吹き込む吹き込み装置とが設けられており、前記ろ過槽は、前記オゾン反応槽から供給される被処理水の供給室と、被処理水をろ過するろ過室とに、上部に開口を有する垂直隔壁によって区画されており、前記ろ過槽の上部には、ろ過槽内の排ガスを排出する排気口が設けられており、前記供給室には、一端が前記オゾン反応槽と前記ろ過槽とを接続する前記導管のろ過槽側の一端に接続され、他端が供給室内の下部に位置する鉛直下向きに配置された下降流入管が設けられており、前記ろ過室には、前記垂直隔壁の開口端よりも下部に形成された活性炭層と、前記活性炭層の下部に形成された粒状媒体層と、ろ過室の内底面から所定間隔を空け前記活性炭層および前記粒状媒体層を支持する多数の通水孔を有する支持板と、前記支持板の下部の空間に位置し、ろ過室の下部側壁に接続されてろ過後の処理水を排出する処理液排出管とが設けられていることを特徴とする水処理装置。

IPC (6)：

C02F 1/78 ZAB , B01D 24/02 , B01D 24/46 , C02F 1/28 , C02F 1/28 ZAB , C02F 3/06 ZAB

FI (6)：

C02F 1/78 ZAB , C02F 1/28 D , C02F 1/28 ZAB F , C02F 3/06 ZAB , B01D 23/10 A , B01D 23/24 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

水処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-310203 Applicant：株式会社東芝
二重管型オゾン接触反応槽
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-012965 Applicant：日本鋼管株式会社
水槽のオゾンによる浄化方法とその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-083550 Applicant：増田閃一

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