Pat
J-GLOBAL ID:200903070505463289
高分子電解質膜およびその製造方法
Inventor:
,
,
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
湯浅 恭三 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993142226
Publication number (International publication number):1994093114
Application date: Jun. 14, 1993
Publication date: Apr. 05, 1994
Summary:
【要約】【目的】 高分子固体電解質として使用するのに適し、十分な化学的安定性を有し、適当な溶剤に溶解するポリマーから製造さるイオン導電膜を提供する。【構成】【化1】(ここで、Arはp-および/またはm-結合を有するフェニレン環であり、Ar’はフェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、アントリレン、または他の二価の芳香族構成単位であり、X、NおよびMはそれぞれ独立して0または1であり、Yは0、1、2または3であり、Pは1、2、3または4である)で表される芳香族ポリエーテルケトンをスルホン化し、そのスルホン酸を単離して有機溶媒に溶解し、その溶液をフィルムに転化することから成る、スルホン化芳香族ポリエーテルケトンからポリマー電解質膜を製造方法。
Claim (excerpt):
スルホン化芳香族ポリエーテルケトンから高分子電解質膜を製造する方法であって、下記式(I)【化1】(ここで、Arはp-および/またはm-結合を有するフェニレン環あり、Ar’はフェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、アントリレン、または他の二価の芳香族構造単位であり、X、NおよびMはそれぞれ独立して0または1であり、Yは0、1、2または3であり、Pは1、2、3または4である)で表される芳香族ポリエーテルケトンがスルホン化されており;そのスルホン酸が単離されて有機溶媒に溶解し;そしてその溶液がフィルムに転化され;前記方法が、以下の工程:a)スルホン酸中のスルホン基の少なくとも5%をスルホニルクロリド基に転化し、b)前記スルホニルクロリド基を、少なくとも1つの架橋性の置換基またはさらに官能基を含むアミンと反応させ、元のスルホン酸基の5-25%をスルホンアミド基に転化し、c)次いで、未反応のスルホニルクロリド基を加水分解し、得られた芳香族スルホンアミドを単離して有機溶媒に溶解し、溶液をフィルムに加工し、d)前記フィルム中の架橋性の置換基を架橋する、ことから成るもの。
IPC (6):
C08J 5/18 CEZ
, C25B 13/08 301
, H01M 8/02
, H01M 8/10
, C08G 65/48 NQU
, C08L 71/10 LQP
Return to Previous Page