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J-GLOBAL ID：200903070550366863

マイクロ波プラズマによる容器処理用装置

Inventor： シヨレ,パトリツク
Applicant, Patent owner： シデル・アクテイス・セルビス
Agent (1)： 川口 義雄 (外5名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000615424
Publication number (International publication number)：2002543292
Application date： Apr. 11, 2000
Publication date： Dec. 17, 2002
Summary：

【要約】本発明は、容器が導体材料から成るチャンバ12内に設置され、回転対称であり、装置が、チャンバの軸A1に対しほぼ直角であり、短辺がチャンバの軸の方向の寸法に対応し、矩形の窓の形状で開口する導波トンネル15を含むこと、およびチャンバ12の内径が、マイクロ波の伝播によって生じる電界が主に軸回転対称を有するモードでチャンバ内を伝播するような内径であることを特徴とするマイクロ波プラズマで容器を処理するための装置に関する。

Claim (excerpt)：

反応流体の励起による低圧プラズマを用いてマイクロ波型の電磁波により処理が実施されるタイプ、および容器が、結合装置を介してマイクロ波が投入される導体材料のチャンバ(12)内に設置されるタイプの、容器の表面処理用装置であって、 チャンバ(12)が、容器(24)の主軸(A1)を中心とする回転円筒であること、結合装置が、チャンバの軸(A1)に対しほぼ直角な方向に延び、短辺がチャンバの軸の方向の寸法に対応する矩形をチャンバの接線面上の投影において呈する窓の形状のチャンバの側壁内に開口する導波トンネル(15)を含むこと、およびチャンバ(12)の内径が、マイクロ波の伝播によって生じる電界が軸回転対称を呈するモードでマイクロ波がチャンバ内を主に伝播するような内径であることを特徴とする装置。

F-Term (11)：

4K030BA43 ,  4K030BA44 ,  4K030CA07 ,  4K030CA11 ,  4K030FA01 ,  4K030JA18 ,  4K030KA09 ,  4K030KA30 ,  4K030KA32 ,  4K030LA01 ,  4K030LA24