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J-GLOBAL ID：200903070580419759

フエニルポリシルセスキオキサンおよびその製造方法

Inventor： 中島 久隆
Applicant, Patent owner： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991221052
Publication number (International publication number)：1993039357
Application date： Aug. 06, 1991
Publication date： Feb. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 分子量分布が狭い低分子量フェニルポリシルセスキオキサンおよびその製造方法を提供する。【構成】 ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の数平均分子量500〜1500で占められる部分が90パーセント以上存在する、一般式:【式1】(Rは水素原子または一価炭化水素基であり、nは平均重合度を示す正数である。)で示されるフェニルポリシルセスキオキサンおよびその製造方法。

Claim (excerpt)：

ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレン換算の数平均分子量500〜1500の範囲で占められる部分が90パーセント以上存在する、一般式:【化1】(Rは水素原子または一価炭化水素基であり、nは平均重合度を示す正数である。)で示されるフェニルポリシルセスキオキサン。