Pat

J-GLOBAL ID：200903070595034918

周波数分析方法及び周波数分析装置

Inventor： 大石 照展 ,  堀 康郎
Applicant, Patent owner： 株式会社日立ビルシステム
Agent (1)： 武 顕次郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998226027
Publication number (International publication number)：2000055949
Application date： Aug. 10, 1998
Publication date： Feb. 25, 2000
Summary：

【要約】【課題】 高精度の周波数分析を実現できる周波数分析方法及び周波数分析装置の提供。【解決手段】 サンプリング周波数発生器3で発生させた所定のサンプリング周波数でサンプリングされたディジタル信号を補間手段7で補間して、サンプリング周波数が異なる信号に変換し、フーリエ変換手段8でフーリエ変換をおこなって、任意の周波数成分について、該変換による周波数成分の漏れを調べ、その洩れを最小にするサンプリング周波数を選定し、演算手段9により該周波数成分の周波数、振幅、位相を決定する。

Claim (excerpt)：

所定のサンプリング周波数でサンプリングされたディジタル信号を補間して、サンプリング周波数が異なる信号に変換し、フーリエ変換をおこなって、任意の周波数成分について、該変換による周波数成分の漏れを調べ、その洩れを最小にするサンプリング周波数を選定することにより、該周波数成分の周波数、振幅、位相を決定することを特徴とする周波数分析方法。

IPC (2)：

G01R 23/16 ,  G06F 17/14

FI (2)：

G01R 23/16 B ,  G06F 15/332 A

F-Term (4)：

5B056AA00 ,  5B056BB12 ,  5B056BB52 ,  5B056HH05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭63-101767
  
• 特開平3-216562
  
• 特開昭63-101767
  
• 特開平3-216562