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J-GLOBAL ID：200903070626987234

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法

Inventor： 新田 和行 ,  佐藤 和史 ,  川名 大助 ,  嶋谷 聡
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000264529
Publication number (International publication number)：2002072480
Application date： Aug. 31, 2000
Publication date： Mar. 12, 2002
Summary：

【要約】【課題】 解像性及び耐エッチング性に優れ、サーマルフロープロセスにより単位温度当りの寸法変化量が小さいレジストパターンを与えることができ、かつ経時安定性の良好なポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)その中に存在するフェノール性水酸基若しくはカルボキシル基の少なくとも一部の水素原子が酸解離性基で置換されたヒドロキシスチレン系共重合体の少なくとも1種からなる基材樹脂成分、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)架橋性ポリビニルエーテル化合物、(D)炭素原子と酸素原子と水素原子のみから構成されたカルボン酸及び(E)有機アミンを含有してなるポジ型レジスト組成物とする。

Claim (excerpt)：

(A)その中に存在するフェノール性水酸基若しくはカルボキシル基の少なくとも一部の水素原子が酸解離性基で置換されたヒドロキシスチレン系共重合体の少なくとも1種からなる基材樹脂成分、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)架橋性ジビニルエーテル化合物、(D)炭素原子と酸素原子と水素原子のみから構成された有機カルボン酸及び(E)有機アミンを含有してなるポジ型レジスト組成物。

IPC (10)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 2/44 ,  C08F257/00 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/09 ,  C08K 5/17 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/40 511 ,  H01L 21/027

FI (10)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 2/44 C ,  C08F257/00 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/09 ,  C08K 5/17 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/40 511 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (53)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BC23 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BF15 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ00 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA33 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA05 ,  2H096LA17 ,  4J002BC121 ,  4J002ED027 ,  4J002EF028 ,  4J002EF048 ,  4J002EF078 ,  4J002EF098 ,  4J002EN019 ,  4J002EN029 ,  4J002EN109 ,  4J002EQ016 ,  4J002EV296 ,  4J002GP03 ,  4J011PA65 ,  4J011PC02 ,  4J011QA11 ,  4J011UA06 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  4J026AA20 ,  4J026BA17 ,  4J026DB36 ,  4J026FA05 ,  4J026FA09 ,  4J026GA06 ,  4J026GA07

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 感光性組成物及びパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-150785   Applicant：関西ペイント株式会社
• 感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-327699   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いた多層レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-250712   Applicant：東京応化工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-173684   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-104590   Applicant：信越化学工業株式会社
• 特開平1-307228
  
• 化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-323332   Applicant：信越化学工業株式会社
• レジスト組成物とこれを用いた微細パターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-121479   Applicant：三星電子株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-197730   Applicant：富士写真フイルム株式会社