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J-GLOBAL ID：200903070661767859

光学活性ベンズヒドロール化合物の製造方法

Inventor： 坂口 民三 ,  今井 隆 ,  三浦 孝志 ,  山崎 哲郎
Applicant, Patent owner： 高砂香料工業株式会社
Agent (1)： 有賀 三幸 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995343199
Publication number (International publication number)：1997176064
Application date： Dec. 28, 1995
Publication date： Jul. 08, 1997
Summary：

【要約】【解決手段】 ベンゾフェノン化合物(1)を遷移金属錯体、塩基及び光学活性ジアミン化合物からなる不斉水素化触媒の存在下に水素化するベンズヒドロール化合物(2)の製造方法。【化1】(R1 〜R10は例えばH、OH、C1 〜C4 のアルキル基、C1 〜C4 のアルコキシ基、C1 〜C4 のアルカノイル基を示し、R2 とR3 及びR8 とR9 は基-CH=CH-CH=CH-を形成してもよく、R1 〜R9 の隣あうものが結合して基-OCH2O-又は基-(CH2)-を形成してもよい)【効果】 簡単な操作で、医薬合成中間体等として有用な光学活性ベンズヒドロール化合物を高純度で製造することができる。

Claim (excerpt)：

次の一般式(1)【化1】(式中、R1 、R5 、R6 及びR10はそれぞれ同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜4個の低級アルキル基、炭素数1〜4個の低級アルコキシ基又は炭素数1〜5個の低級アルカノイル基を示し、R2 、R3 、R4 、R7 、R8 及びR9 はそれぞれ同一又は異なって水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜4個の低級アルキル基、炭素数1〜4個の低級アルコキシ基、炭素数1〜5個の低級アルカノイル基、アミノ基又は、低級アルキル基、低級アルカノイル基若しくは低級アルコキシカルボニル基により置換されたアミノ基を示し、R2 とR3 及びR8 とR9 はそれぞれともに結合して基-CH=CH-CH=CH-を形成してもよく、R1 〜R9 の隣あうものがともに結合して基-OCH2O-又は基-(CH2)3-を形成してもよい)で表わされるベンゾフェノン化合物を遷移金属錯体、塩基及び光学活性ジアミン化合物からなる不斉水素化触媒の存在下に水素化することを特徴とする次の一般式(2)【化2】(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 、R9 及びR10は前記と同様の意味を示し、*は不斉炭素の位置を示す)で表わされる光学活性ベンズヒドロール化合物の製造方法。

IPC (15)：

C07C 33/18 ,  B01J 31/02 101 ,  B01J 31/02 102 ,  B01J 31/02 103 ,  B01J 31/24 ,  B01J 31/26 ,  C07C 29/145 ,  C07C 33/24 ,  C07C 33/46 ,  C07C 39/12 ,  C07C 67/31 ,  C07C 69/76 ,  C07B 53/00 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00

FI (14)：

C07C 33/18 ,  B01J 31/02 101 X ,  B01J 31/02 102 X ,  B01J 31/02 103 X ,  B01J 31/24 X ,  B01J 31/26 X ,  C07C 29/145 ,  C07C 33/24 ,  C07C 33/46 ,  C07C 39/12 ,  C07C 67/31 ,  C07C 69/76 A ,  C07B 53/00 B ,  C07B 61/00 300