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J-GLOBAL ID：200903070663719010

位置検出装置

Inventor： 北岡 厚志 ,  斉藤 謙治
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992020514
Publication number (International publication number)：1993066109
Application date： Jan. 09, 1992
Publication date： Mar. 19, 1993
Summary：

【要約】【目的】 半導体素子製造装置においてマスクとウエハとの3次元的な相対位置決め(アライメント)を高精度に行なうことのできる位置検出装置を得ること。【構成】 第1物体と第2物体とを対向させて相対的な位置検出を行なう際、該第1物体面上と該第2物体面上に各々物理光学素子を形成し、このうち一方の物理光学素子に投光手段から光を入射させたときに生ずる回折光を他方の物理光学素子に入射させ、該他方の物理光学素子により所定面上に生ずる回折パターンの光束を受光手段により検出する粗検出手段及び該粗検出手段と同一方向の位置ずれ量を該粗検出手段の投光手段及び受光手段の一部を共有する微検出手段とを設け、該粗検出手段からの信号を利用して該第1物体と第2物体との相対的位置関係を該微検出手段の検出可能領域に追い込んでから該微検出手段からの信号を利用して該第1物体と該第2物体との相対的な位置検出を行なったこと。

Claim (excerpt)：

第1物体と第2物体とを対向させて相対的な位置検出を行なう際、該第1物体面上と該第2物体面上に各々物理光学素子を形成し、このうち一方の物理光学素子に投光手段から光を入射させたときに生ずる回折光を他方の物理光学素子に入射させ、該他方の物理光学素子により所定面上に生ずる回折パターンの光束を受光手段により検出する粗検出手段及び該粗検出手段と同一方向の位置ずれ量を該粗検出手段の投光手段及び受光手段の一部を共有すると共に該粗検出手段とは異なる検出精度又は/及び位置ずれ検出可能範囲を有する微検出手段とを設け、該粗検出手段と該微検出手段とを利用して該第1物体と該第2物体との相対的な位置検出を行なったことを特徴とする位置検出装置。

IPC (3)：

G01B 11/00 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 311 B ,  H01L 21/30 311 M