Pat
J-GLOBAL ID:200903070672727050

多孔質セラミックス及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 尾仲 一宗
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994107389
Publication number (International publication number):1995291756
Application date: Apr. 25, 1994
Publication date: Nov. 07, 1995
Summary:
【要約】【目的】 本発明は、排気ガス中のパティキュレートの捕集効率をアップし、圧力損失を低減できる多孔質セラミックス及びその製造方法を提供する。【構成】 この多孔質セラミックスは、SiCセラミックスを母相とした開気孔を有するSiC焼結多孔体1,2と、該SiC焼結多孔体1,2を基体として成長しているSiCウィスカー3とから構成されている。絶縁性のSiCウィスカー3は導電性の焼結多孔体1と2の間に配置されている。この多孔質セラミックスは、排気系に配置されて排気ガス中に含まれるパティキュレートを捕集して焼却再生されるディーゼルパティキュレートフィルタに適用して好ましい。
Claim (excerpt):
SiCセラミックスを母相とした開気孔を有するSiC焼結多孔体と、該SiC焼結多孔体を基体として成長しているSiCウィスカーとから構成されていることを特徴とする多孔質セラミックス。
IPC (10):
C04B 38/00 303 ,  C04B 38/00 ZAB ,  C04B 38/00 304 ,  B01D 39/20 ZAB ,  C04B 35/64 ,  C04B 35/80 ,  C04B 35/81 ZAB ,  C04B 38/06 ZAB ,  F01N 3/02 ZAB ,  F01N 3/02 301
FI (3):
C04B 35/64 A ,  C04B 35/80 C ,  C04B 35/80 ZAB M
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page