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J-GLOBAL ID：200903070688760880

単一真空源を有する高スループットシステムにおける稀釈

Inventor： アン・アール・コッフ-シル ,  スティーヴン・エー・サンドバーグ ,  アンドレア・ダブリュー・チャウ ,  クラウディア・エル・ポグリッシュ
Applicant, Patent owner： カリパー・テクノロジーズ・コープ.
Agent (1)： 川原田 一穂
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001519171
Publication number (International publication number)：2003507737
Application date： Aug. 23, 2000
Publication date： Feb. 25, 2003
Summary：

【要約】チャネル(104)を備えたミクロ流体装置(100)における流量が、フローリダクションチャネル(106、110)による連続稀釈の実行後に調節される。

Claim (excerpt)：

(i)本体構造部であって、その中に配置された主チャネルを含み、さらに、(a)1又は2以上の交差地点にて主チャネルと交差する1又は2以上のフローリダクションチャネルであって、流体のが前記1又は2以上の交差地点を流れ過ぎる際に主チャネル中の流体の流量を低減するように構造上構成されている前記1又は2以上のフローリダクションチャネル、(b)前記1又は2以上のフローリダクションチャネルに流動自在に連結された第1圧力源であって、該第1圧力源に向かう流れの方向において前記1又は2以上の交差地点の下流の前記1又は2以上のフローリダクションチャネルに配置される前記第1圧力源、を含む前記本体構造部、及び(ii)主チャネルに流動自在に連結された主圧力源、を含むミクロ流体装置。

IPC (3)：

G01N 37/00 ,  G01N 37/00 101 ,  G01N 35/08

FI (3)：

G01N 37/00 ,  G01N 37/00 101 ,  G01N 35/08 A

F-Term (2)：

2G058DA07 ,  2G058GE02