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J-GLOBAL ID:200903070710372040
排気系の圧力異常検出装置とその検出方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
花輪 義男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998000158
Publication number (International publication number):1999193464
Application date: Jan. 05, 1998
Publication date: Jul. 21, 1999
Summary:
【要約】【課題】従来の半導体製造装置の排気管内に堆積した生成物による実行排気速度の低下に対するメインテナンス時期は、基板の処理枚数や到達真空度まで達する時間など経験的に実施時期を決めていたが、必ずしも適正なタイミングとは限らず、インターロックが作動して稼働が停止する場合もあった。【解決手段】本発明は、半導体製造装置の排気管内に堆積した生成物による実行排気速度の低下をバルブの開口度により関知し、その開口度の所定範囲内で警告を行い、適正なタイミングでメインテナンスを実施可能な排気系の圧力異常検出装置である。
Claim (excerpt):
ガス導入系によりプロセスガスをチャンバー内に導入し、該チャンバー内で成膜若しくはエッチングを行う製造装置の排気系において、前記チャンバー内に導入された前記プロセスガスを排気する際に、前記チャンバー内が所望する圧力になるように圧力制御を行うバルブ手段と、圧力に伴って変化する前記バルブ手段の開口度を検出するバルブ開口度検出手段と、前記開口度に基づく警告条件やメインテナンス条件を設定する設定手段と、前記バルブ開口度検出手段により検出されたバルブ開口度が予め定めた開口度になった際に、メインテナンスを実施するように判定する判定手段と前回までに判定されたメインテナンス実施に関する情報を記憶するデータ記憶手段と、メンテナンス実施の判定回数が設定回数に達し若しくは、開口度が予め定めた設定値以上になった時に、強制的にメンテナンス実施状態に移行させる処理手段と、を具備することを特徴とする排気系の圧力異常検出装置。
IPC (3):
C23C 16/44
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
FI (3):
C23C 16/44 D
, H01L 21/205
, H01L 21/302 B
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