Pat
J-GLOBAL ID:200903070763191250
ウェーハチャック
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
京本 直樹 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994257810
Publication number (International publication number):1996125000
Application date: Oct. 24, 1994
Publication date: May. 17, 1996
Summary:
【要約】【目的】ウェーハを保持するウェーハチャックにおいて、平坦度を阻害させるウェーハ15の裏面に異物が付着してもあるいはウェーハ15に反りがあって表面の平坦度を精度良く維持し保持できるようにする【構成】ウェーハ15を吸着保持する保持面積をウェーハ15の外周縁部に狭い領域に留め異物が混入しないようにし、反りのあるウェーハ15を平坦にするために、空間部3bの圧力を調節する可変リーク弁4と真空ポンプ6と高圧空気に切換える切換えバルブ7とを設け、レーザ測長器1の反り測定値に応してウェーハに適切な正圧または負圧を印加し反りを矯正している。
Claim (excerpt):
一主面を上にして半導体ウェーハの裏面の外周縁部を載置し真空吸着する溝が形成される凸部を有するとともに該凸部の内側にある窪みと前記半導体ウェーハの裏面とでなる空間部を形成するコップ状の支持台と、この支持台の前記溝の空間部と前記空間部とを真空排気する真空ポンプと、前記空間部の排気穴と通ずる配管の経路途中に設けられ前記真空ポンプの吸入口側の配管と高圧空気源の供給口側の配管とのいずれかに切替える切換えバルブと、前記半導体ウェーハの一主面の中心部にレーザを照射し前記空間部の圧力による変形度を測定するレーザ測長器と、このレーザ測長器の測定値により前記空間部の圧力を調節する圧力調節器とを備えることを特徴とするウェーハチャック。
IPC (4):
H01L 21/68
, B65G 49/07
, H01L 21/027
, H01L 21/66
Patent cited by the Patent:
Return to Previous Page