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J-GLOBAL ID：200903070793334862
パターン検査装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴木 章夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992161778
Publication number (International publication number)：1993333532
Application date： May. 29, 1992
Publication date： Dec. 17, 1993
Summary：
【要約】【目的】 パターン信号を得てこれを基準レベルと検出することでパターン欠陥を検出する検査装置において、中間濃度のパターン欠陥を確実に検出できるようにする。【構成】 マスクフィルムに形成されたパターン濃度に応じた電気信号を得るCCDカメラ1と、得られた信号のレベルを高レベル側に偏った第1の基準レベルと比較する第1の2値化部21と、同信号を低レベル側に偏った第2の基準レベルと比較する第2の2値化部22と、得られた2値化信号の特徴を抽出する第1及び第2の特徴抽出部31,32と、抽出された特徴から欠陥を判定する判定部4と、システム制御部5とで構成される。
Claim (excerpt)：
マスクフィルムに形成されたパターン濃度を電気信号レベルとして検出し、この電気信号レベルを基準レベルと比較して2値化し、2値化した信号に基づいてパターン欠陥を検出する装置において、前記2値化を行う手段は、高レベル側に偏った第1の基準レベルと、低レベル側に偏った第2の基準レベルとをそれぞれ用いて2値化を行うように構成したことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (5)：
G03F 1/08
, G01B 11/24
, G01N 21/88
, H01L 21/027
, H04N 1/40 103
