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J-GLOBAL ID：200903070810749940

処理方法、レジスト処理方法及びレジスト処理装置

Inventor： 岡村 幸治 ,  飽本 正巳
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
Agent (1)： 金本 哲男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996023074
Publication number (International publication number)：1996255750
Application date： Jan. 16, 1996
Publication date： Oct. 01, 1996
Summary：

【要約】【課題】 第1の処理部と第2の処理部との処理時間に差がある場合、第2の処理部の処理に前待機時間を設けて、両処理部でのタクトタイムの統一を図り、処理を均一化する。【解決手段】 ウエハに対して露光処理を行う露光処理部2と、露光処理後のウエハに対してポスト・エクスポージャ・ベーキング処理を行う熱処理装置を有する塗布・現像処理部3とが、ウエハの受け渡しを行うインターフェース部4を介して接続されている場合、露光処理のタクトタイムに応じて前記熱処理装置内での前待機時間を設定する。

Claim (excerpt)：

被処理体に対して第1の処理を行う第1の処理装置を備えた第1の処理部と、前記第1の処理終了後に前記被処理体に対して第2の処理を行う第2の処理装置、及び前記第2の処理後に前記被処理体に対して各種の異なった処理を行う複数の次処理装置を備えた第2の処理部と、前記第1の処理部と第2の処理部との間で被処理体の受け渡しを行うインターフェース部と、前記インターフェース部と前記第2の処理部における処理装置との間で被処理体の搬送を行う搬送手段と、を備えた処理システムにおいて、前記第1の処理装置での処理時間に応じて、前記第2の処理装置内における被処理体の前待機時間を設定し、この前待機時間経過後に前記第2の処理を実施することを特徴とする、処理方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  B08B 3/02

FI (5)：

H01L 21/30 561 ,  B08B 3/02 C ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 516 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平4-045514
  
• 特開平4-113612
  
• 特開平3-154324
  
• 特開平1-209722
  
• 特開平4-239720