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J-GLOBAL ID：200903070811085964

磁気ディスク用基板およびその製造方法

Inventor： 鈴木 富雄 ,  竹矢 文則
Applicant, Patent owner： 日本碍子株式会社
Agent (1)： 杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995174895
Publication number (International publication number)：1997035234
Application date： Jul. 11, 1995
Publication date： Feb. 07, 1997
Summary：

【要約】【目的】ガラスセラミックス製の磁気ディスク用基板において、精密研磨加工によって加工面の中心線平均表面粗さを20オングストローム以下のレベルにまで短時間で減少させ、その強度を向上させ、その信頼性を向上させ、その薄型化を可能とすること。【構成】ガラスセラミックス製の磁気ディスク用基板であって、ガラスセラミックスを構成する結晶粒子の平均粒子径が、1.0μm以下であり、かつ主結晶層が、ニケイ酸リチウム(Li2 O・2SiO2 )相と、β-スポジュウメン(Li2 O・Al2 O3 ・4SiO2 )相またはβ-スポジュウメン固溶体相によって占められており、かつSiO2 組成の結晶相の占める割合が2重量%以下である。磁気ディスク用基板の表面の中心線平均粗さが20オングストローム以下である。

Claim (excerpt)：

ガラスセラミックス製の磁気ディスク用基板であって、前記ガラスセラミックスを構成する結晶粒子の平均粒径が1.0μm以下であり、かつ主結晶層が、ニケイ酸リチウム(Li2 O・2SiO2 )相と、β-スポジュウメン(Li2 O・Al2 O3 ・4SiO2 )相またはβ-スポジュウメン固溶体相によって占められており、さらにSiO2 組成の結晶相の占める割合が2重量%以下であり、前記磁気ディスク用基板の表面の中心線平均粗さが20オングストローム以下であることを特徴とする、磁気ディスク用基板。

IPC (4)：

G11B 5/66 ,  C03C 10/12 ,  G11B 5/82 ,  G11B 5/84

FI (4)：

G11B 5/66 ,  C03C 10/12 ,  G11B 5/82 ,  G11B 5/84 Z