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J-GLOBAL ID：200903070816547370

プラズマ発生装置

Inventor： 石井 信雄
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994056237
Publication number (International publication number)：1995288196
Application date： Mar. 25, 1994
Publication date： Oct. 31, 1995
Summary：

【要約】【目的】 高周波アンテナを用いる高周波誘導方式において、被処理体の被処理面付近のプラズマ密度を均一化し、プラズマ処理の均一性、再現性を得るようにしたプラズマ発生装置を提供すること。【構成】 チャンバ10内の上記被処理体に対向して上記チャンバの外に配置された複数の1巻き高周波コイル16,17と、各高周波コイルに供給する高周波電圧信号の位相を検出する位相検出部22a,22b と、単一の高周波信号を出力する高周波発振部21a と、位相検出部で検出された各高周波電圧信号の位相を所定の位相差にするように上記高周波発振部から出力される高周波信号より複数の所定の位相差をもった高周波電圧信号を生成する位相調整部23b とを具備したことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

チャンバ内にプラズマを発生させ、チャンバ内に載置された被処理体にプラズマを用いて所定の処理を施すプラズマ発生装置において、上記チャンバ内の上記被処理体に対向して上記チャンバの外に配置された複数の1巻き高周波コイルと、各高周波コイルに供給する高周波電圧信号の位相を検出する位相検出部と、単一の高周波信号を出力する高周波発振部と、上記位相検出部で検出された各高周波電圧信号の位相を所定の位相差にするように上記高周波発振部から出力される高周波信号より複数の所定の位相差をもった高周波電圧信号を生成する位相調整部とを具備したことを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (5)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (2)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/31 C