Pat
J-GLOBAL ID：200903070820953790

透明インジウム錫酸化物の電子ビーム蒸着方法

Inventor：
メアリニ,ジェラルド,ティー.

About メアリニ,ジェラルド,ティー.


Applicant, Patent owner：
ジェンヴァック エアロスペース コーポレーション

About ジェンヴァック エアロスペース コーポレーション


Agent (1)： 川北 武長
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2001553415
Publication number (International publication number)：2003520296
Application date： Dec. 22, 2000
Publication date： Jul. 02, 2003
Summary：
【要約】基板上にインジウム錫酸化物の透明コーティングを成膜する方法であって、部分的な真空環境に前記基板を配置し、インジウム錫酸化物のコーティングを前記基板の少なくとも一部に成膜するまで、前記基板に隣接して酸素を提供するイオン源を動作させながら、錫酸化物を添加したインジウム酸化物粒体の電子ビーム蒸着を行う方法。
Claim (excerpt)：
基板上にインジウム錫酸化物の透明コーティングを成膜する方法であって、部分的な真空環境に前記基板を配置し、インジウム錫酸化物のコーティングが、前記基板の少なくとも一部の上に成膜されるまで、前記基板に隣接して酸素を供給するイオン源を動作させながら、錫酸化物を添加したインジウム酸化物粒体の電子ビーム蒸着を行う方法。
IPC (3)：
C23C 14/08 ,  C23C 14/48 ,  H01B 13/00 503
FI (3)：
C23C 14/08 D ,  C23C 14/48 D ,  H01B 13/00 503 B
F-Term (12)：
4K029BA45 ,  4K029BC09 ,  4K029CA02 ,  4K029CA09 ,  4K029DB05 ,  4K029DB21 ,  4K029DE02 ,  4K029EA01 ,  4K029EA03 ,  4K029EA08 ,  5G323BA02 ,  5G323BB04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)
  • 特開昭62-010269
  • 特開昭58-113373
  • 特開昭64-055374
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM