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J-GLOBAL ID：200903070839246122

投影露光装置

Inventor： 西 健爾
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992289985
Publication number (International publication number)：1994140305
Application date： Oct. 28, 1992
Publication date： May. 20, 1994
Summary：

【要約】【目的】 スリットスキャン露光方式で、レチクル及びウエハの相対走査方向の定速度駆動並びにレチクルとウエハとの位置合わせを同時に高精度に行う。【構成】 レチクル側ベース19上に、スリット状の照明領域に対してレチクル7を相対走査方向に走査するレチクル側走査ステージ20を載置し、このステージ20上にレチクル7を2次元平面内で移動及び回転させるレチクル側微動ステージ21を載置し、このステージ21上にレチクル7を載置する。レチクル側走査ステージ20及びレチクル側微動ステージ21をそれぞれ独立に制御することにより、定速度駆動及びレチクル7とウエハ14との位置合わせを行う。

Claim (excerpt)：

露光光で転写用のパターンが形成されたマスクを均一な照度で照明する照明光学系と、前記マスク上の前記露光光による照明領域を設定する視野絞りと、前記マスクの転写用のパターンの像を感光基板上に投影する投影光学系とを有し、前記露光光による照明領域の走査方向に相対的に前記マスク及び前記感光基板を同期して走査することにより、前記マスク上の前記露光光による照明領域よりも広い領域の転写用のパターンの像を前記感光基板上に露光する投影露光装置において、前記露光光による照明領域に対して前記マスクを前記走査方向に相対的に等速度で走査する第1のマスク駆動手段と、該第1のマスク駆動手段とは独立に、前記マスクに該マスクに平行な面内で並進移動及び回転を行わせる第2のマスク駆動手段と、前記マスクの該マスクに平行な面内での位置及び回転角を検出するマスク位置検出手段と、前記マスクの転写用のパターン像を投影したときの共役像に対して前記感光基板を前記走査方向に共役な方向に相対的に等速度で走査する基板駆動手段と、前記感光基板の該感光基板に平行な面内での位置及び回転角を検出する基板位置検出手段と、該基板位置検出手段により検出された前記感光基板の位置及び回転角に応じて、前記第2のマスク駆動手段を介して前記マスクの位置及び回転角を制御する制御手段とを有する事を特徴とする投影露光装置。

IPC (5)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68