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J-GLOBAL ID：200903070845048260

還元又は酸化ガス用のガスセンサ

Inventor： ペーター アルトハインツ ,  ヨアヒム ゴシュニック
Applicant, Patent owner： フォルシュングスツェントルム カールスルーエ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1996503637
Publication number (International publication number)：1998501068
Application date： May. 12, 1995
Publication date： Jan. 27, 1998
Summary：

【要約】本発明は、半導電性金属酸化物薄膜からなる複数のガス感応性領域を有し、該領域がそれぞれ2つの電極と接続されておりかつそれぞれ異なったドーピング及び/又は被覆により還元又は酸化ガスと接触すると種々異なった導電性変化を呈する、還元又は酸化ガス用のガスセンサに関する。本発明の課題は、製造が簡単である前記形式のガスセンサを提供することである。該課題は、本発明により、領域が唯一の連続した面を形成し、連続した面が2つの帯状の外側電極により制限され、外側電極の間に帯状の内側電極が配置されており、該内側電極により連続した層が領域に分割されていることにより解決される。

Claim (excerpt)：

a)基板(1)を有し、該基板の上に半導電性金属酸化物薄膜からなる複数の薄いガス感応性領域が施されており、 b)該領域がそれぞれ2つの電極と接続されておりかつ c)それぞれ異なったドーピング及び/又は被覆により還元又は酸化ガスと接触すると種々異なった導電性変化を呈する、還元又は酸化ガス用のガスセンサにおいて、 d)領域が唯一の連続した層(3)からなり、 e)連続した層が2つの帯状の外側電極(4)により制限され、 f)外側電極(4)の間に帯状の内側電極(4)が配置されており、該内側電極により連続した層が領域に分割されていること特徴とする、還元又は酸化ガス用のガスセンサ。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• ガスセンサおよびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-041790   Applicant：富士電機株式会社