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J-GLOBAL ID：200903070849741997

高遮光性組成物及び高遮光性パターンの形成法

Inventor： 佐藤 勉 ,  吉田 健 ,  杉本 靖
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997264747
Publication number (International publication number)：1999109638
Application date： Sep. 30, 1997
Publication date： Apr. 23, 1999
Summary：

【要約】【課題】 高遮光性パターンの形成を可能とする高遮光性組成物及び高遮光性パターンの形成法を提供する。【解決手段】 ビニルフェノール樹脂、平均粒子径10〜100nmのカーボン粉末、チタネート化合物としてジ(2-エチルヘキソキシ)ビス(2-エチル-1,3-ヘキサンツジオライト)チタン及び/又はP-アミノベンゾイルオキシ-トリ-n-ブトキシチタンとジブチルハイドロジェンホスファイトの混合物、ビニルフェノール樹脂の溶媒としてエチル-3-エトキシプロピネート及び/又はジアルキルグリコールエーテルよりなる高遮光性組成物。

Claim (excerpt)：

(A)ビニルフェノール樹脂(B)平均粒子径10〜100nmのカーボン粉末(C)チタネート化合物(D)ビニルフェノール樹脂(A)の溶媒よりなる高遮光性組成物。

IPC (10)：

G03F 7/105 502 ,  C08L 25/18 ,  G02B 5/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/40

FI (10)：

G03F 7/105 502 ,  C08L 25/18 ,  G02B 5/00 B ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/40