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J-GLOBAL ID：200903070886975612

パターン照合装置

Inventor： 渡辺 太郎
Applicant, Patent owner： 日本ビクター株式会社
Agent (1)： 二瓶 正敬
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999226441
Publication number (International publication number)：2001052168
Application date： Aug. 10, 1999
Publication date： Feb. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】 パターンに変動が加わっている場合でも、相関の精度がほとんど低下することがないパターン照合装置を提供する。【解決手段】 変動の加わった標本パターンの集合を記録する標本パターン集合部Ai210、同一集合に属する標本パターン間の差分を演算して差分の集合の要素からなる集合を記録する差分パターン集合部Bi230、差分パターン集合部に記憶された集合に対して主成分分析を行う主成分分析部250、照合を行う照合パターンを入力する照合パターン入力部270、標本パターン集合部に属する標本パターンと入力された照合パターンとの差分を演算する差分演算部280、主成分分析部による主成分分析により求められた固有ベクトルから差分の部分空間を構成して標本パターンと照合パターンとの差分の部分空間への射影成分の大きさから標本パターンと照合パターンとの相関を求める相関演算部290を備える。

Claim (excerpt)：

変動の加わった標本パターンの集合を記録しておく標本パターン集合部と、前記標本パターン集合部に記憶された同一集合に属する標本パターン間の差分を演算して、演算された差分の集合の要素からなる集合を記録する差分パターン集合部と、前記差分パターン集合部に記憶された集合に対して主成分分析を行う主成分分析手段と、照合を行う照合パターンを入力する照合パターン入力手段と、前記標本パターン集合部に属する標本パターンと前記照合パターン入力手段により入力された照合パターンとの差分を演算する差分演算手段と、前記主成分分析手段による主成分分析により求められた固有ベクトルから差分の部分空間を構成して、標本パターンと照合パターンとの差分の部分空間への射影成分の大きさから標本パターンと照合パターンとの相関を求める相関演算手段とを、備えたパターン照合装置。

F-Term (8)：

5L096BA18 ,  5L096DA02 ,  5L096FA34 ,  5L096FA38 ,  5L096GA08 ,  5L096HA08 ,  5L096JA11 ,  5L096MA07