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J-GLOBAL ID：200903070895470353

イチョウ葉エキスの製造法

Inventor： 宮田 和成
Applicant, Patent owner： 旭化成工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998299238
Publication number (International publication number)：2000128792
Application date： Oct. 21, 1998
Publication date： May. 09, 2000
Summary：

【要約】【課題】 有機溶剤の残留がなく安全性の高いイチョウ葉エキスを製造する。【解決手段】 イチョウ葉エキスを製造するにあたり、抽出操作、精製操作を通じ有機溶媒としては沸点が低く、残留の心配のないジメチルエーテルのみを使用することで、有機溶剤の残留がなく有効成分が濃縮されたイチョウ葉エキスを得る。【効果】有機溶剤の残留がなく安全性の高いイチョウ葉エキスの製造法を提供する。本発明により得られるエキスは、抽出溶剤としてジメチルエーテルのみを使用するため製品に有機溶剤の痕跡の残留も認められないため、継続的な体内への摂取に対しても安全性が高い。また、有機溶剤としてジメチルエーテルのみを使用するため、溶媒回収が容易であり経済的なプロセスを開発するに至った。

Claim (excerpt)：

下記逐次操作を行うことを特徴とするイチョウ葉エキスの製造法:(1)イチョウの葉を破砕する操作、(2)抽出用含水ジメチルエーテルを用いて破砕したイチョウ葉から抽出する操作、(3)抽出液を抽出残渣と分離して抽出ろ液を回収する操作、(4)抽出ろ液から疎水性物質を沈澱させるため、抽出液中のジメチルエーテルを蒸発させ水性抽出液とし、沈澱物を形成する操作、(5)水性抽出液を沈澱と分離して水性抽出ろ液を回収する操作、(6)水性抽出ろ液を濃縮する操作、(7)濃縮した水性抽出ろ液に電解質を添加して、有効成分を沈澱させる操作、(8)不溶性画分を回収する操作、(9)不溶性画分を含水ジメチルエーテルに再溶解し脱塩する操作、(10)不溶物を分離する操作、及び(11)溶媒除去後、乾燥により粉末エキスを回収する操作。

IPC (3)：

A61K 35/78 ,  A23L 1/30 ,  A61P 9/00

FI (4)：

A61K 35/78 B ,  A61K 35/78 Y ,  A23L 1/30 B ,  A61K 31/00 609

F-Term (22)：

4B018LE05 ,  4B018MD48 ,  4B018ME14 ,  4B018MF01 ,  4B018MF06 ,  4C088AB02 ,  4C088AC05 ,  4C088BA08 ,  4C088BA11 ,  4C088BA14 ,  4C088CA01 ,  4C088CA04 ,  4C088CA11 ,  4C088CA12 ,  4C088CA17 ,  4C088CA19 ,  4C088CA30 ,  4C088MA43 ,  4C088ZA36 ,  4C088ZA45 ,  4C088ZA54 ,  4C088ZB09