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J-GLOBAL ID:200903070906975266

高電界パルス殺菌方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 坂本 光雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999075672
Publication number (International publication number):2000262261
Application date: Mar. 19, 1999
Publication date: Sep. 26, 2000
Summary:
【要約】【課題】 比較的頑強な芽胞菌をも殺菌できるようにする。【解決手段】 絶縁体製平板3aの中央部に、殺菌対象液体8を入れておくことができる大きさの貫通孔1を設け、貫通孔1の上端内面に開口するよう平板3aの上端より細孔2を穿設して殺菌容器としてのスペーサ3を形成する。貫通孔1の両端を閉塞させるようスペーサ3の両側面に電界印加電極4を配置して、貫通孔1内周面と電界印加電極4との間を高電界印加領域5とする。電界印加電極4に接続した短パルス発生装置6にて高電圧パルスを発生させ、高電界印加領域5内の殺菌対象液体8に対して高電界パルスを印加する。
Claim (excerpt):
所要間隔で対峙させた電界印加電極間に形成される高電界印加領域に殺菌対象液体を配置し、該高電界印加領域の殺菌対象液体に、立ち上がり時間を100ps〜20ns未満、パルス幅を100ns未満、立ち下がり時間を100ps〜100ns以下とし、且つ電界強度を30〜300kV/cmとした高電界パルスを印加して殺菌を行わせることを特徴とする高電界パルス殺菌方法。
F-Term (4):
4B021LA42 ,  4B021LP06 ,  4B021LP10 ,  4B021LT03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 特開平4-082556
  • 特開平4-027673
  • 特開平1-095751
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