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J-GLOBAL ID：200903070922324291

画像形成装置用被転写材

Inventor： 吉田 稔 ,  平野 浩二
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝 ,  東芝インテリジエントテクノロジ株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991250681
Publication number (International publication number)：1993088401
Application date： Sep. 30, 1991
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：

【要約】【目的】 かぶりや用紙汚れのない良好な印字を行なうことを可能とする画像形成装置用被転写材を提供すること。【構成】 転写後に像担持体上に残留する現像剤を回収して前記現像手段に戻す機構を有する画像形成装置に用いる被転写材であって、その中に含まれる填料の帯電量Qpと現像剤の帯電量Qtとが、下記式(1)又は(2)を満足することを特徴とする画像形成装置用被転写材。Qtが負の場合 Qp≧Qt かつ |Qp|≦2×|Qt| ...(1)Qtが正の場合 Qp≦Qt かつ |Qp|≦2×|Qt| ...(2)

Claim (excerpt)：

像担持体に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記静電潜像に現像剤を供給して前記静電潜像を可視像化する現像手段と、前記像担持体に形成された現像剤像を被転写材に転写する転写手段とを具備し、前記転写後に像担持体上に残留する現像剤を回収して前記現像手段に戻す機構を有する画像形成装置に用いる被転写材であって、その中に含まれる填料の帯電量Qpと現像剤の帯電量Qtとが、下記式(1)又は(2)を満足することを特徴とする画像形成装置用被転写材。 Qtが負の場合 Qp≧Qt かつ |Qp|≦2×|Qt| ...(1) Qtが正の場合 Qp≦Qt かつ |Qp|≦2×|Qt| ...(2)

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭59-162560
  
• 特開昭61-067038
  
• 特開平3-062042