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J-GLOBAL ID：200903070927982262

熱処理装置

Inventor： 大見 忠弘 ,  森田 瑞穂
Applicant, Patent owner： 大見 忠弘
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991232275
Publication number (International publication number)：1993047746
Application date： Aug. 20, 1991
Publication date： Feb. 26, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 絶縁物から成る炉心管内で基板の表面に、信頼性の高い酸化膜を形成すること酸化反応処理等が可能な熱処理装置を提供することを目的とする。【構成】絶縁物から成り、開閉可能な開口部13を介して被加熱物4を搬出入可能に構成された炉心管1を有する熱処理装置において、前記炉心管内に導入されるガス体に向けて紫外光を照射するための照射手段6を備えたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

絶縁物から成り、開閉可能な開口部を介して被加熱物を搬出入可能に構成された炉心管を有する熱処理装置において、前記炉心管内に導入されるガス体に向けて紫外光を照射するための照射手段を備えたことを特徴とする熱処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/31 ,  C30B 33/02 ,  H01L 21/324

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭59-068923
  
• 特開昭59-068923