Pat
J-GLOBAL ID:200903070941677030

アナターゼ形酸化チタン光触媒担持シリカゲル及びその製法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須藤 政彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003104689
Publication number (International publication number):2004305947
Application date: Apr. 08, 2003
Publication date: Nov. 04, 2004
Summary:
【課題】アナターゼ形酸化チタン光触媒担持シリカゲル及びその製法、並びにその成形体、シート、及び水性塗料組成物を提供する。【解決手段】X線結晶粒子径が2nm〜10nmの範囲にあるアナターゼ形酸化チタン超微粒子を含むアナターゼ形酸化チタン光触媒担持シリカゲルであって、アナターゼ形酸化チタン超微粒子がシリカゲルの内部に担持されていること、少なくとも1000°Cで焼成してもアナターゼの結晶形が維持されること、を特徴とするアナターゼ形酸化チタン光触媒担持シリカゲル、その成形体、シート、水性塗料組成物、及び粉末状及び/又は粒状のシリカゲルとチタン含有溶液を混合することにより、当該チタン含有溶液を当該シリカゲルに含ませた後、水又はお湯に投入して加水分解してから加熱焼成することを特徴とするアナターゼ形酸化チタン光触媒担持シリカゲルの製造方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
X線結晶粒子径が2nm〜10nmの範囲にあるアナターゼ形酸化チタン超微粒子を含むアナターゼ形酸化チタン光触媒担持シリカゲルであって、アナターゼ形酸化チタン超微粒子がシリカゲルの内部に担持されていること、少なくとも1000°Cで焼成してもアナターゼの結晶形が維持されること、を特徴とするアナターゼ形酸化チタン光触媒担持シリカゲル。
IPC (8):
B01J35/02 ,  B01D53/86 ,  B01D53/94 ,  B01J21/08 ,  C09D5/00 ,  C09D5/16 ,  C09D7/12 ,  C09D201/00
FI (10):
B01J35/02 J ,  B01J21/08 A ,  C09D5/00 Z ,  C09D5/16 ,  C09D7/12 ,  C09D201/00 ,  B01D53/36 J ,  B01D53/36 G ,  B01D53/36 H ,  B01D53/36 102D
F-Term (49):
4D048AA06 ,  4D048AA22 ,  4D048AA23 ,  4D048AB03 ,  4D048AB05 ,  4D048BA06X ,  4D048BA07X ,  4D048BA41X ,  4D048BB01 ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BC50A ,  4G069BC50B ,  4G069CA02 ,  4G069CA03 ,  4G069CA13 ,  4G069CA15 ,  4G069CA17 ,  4G069DA06 ,  4G069EA01X ,  4G069EA01Y ,  4G069EA07 ,  4G069EB18X ,  4G069EB18Y ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069ED06 ,  4G069FA06 ,  4G069FB14 ,  4G069FB18 ,  4G069FB19 ,  4G069FB62 ,  4J038BA021 ,  4J038BA121 ,  4J038CE021 ,  4J038CG141 ,  4J038DA061 ,  4J038DA131 ,  4J038HA216 ,  4J038KA04 ,  4J038MA08 ,  4J038MA10 ,  4J038NA05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page