Pat

J-GLOBAL ID：200903071005585279

静電吸着装置及びそれを用いた電子ビーム露光装置

Inventor： 佐藤 秀寿 ,  宮田 敏光 ,  松島 勝 ,  斉藤 徳郎 ,  船津 隆一
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 薄田 利幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996044423
Publication number (International publication number)：1997237827
Application date： Mar. 01, 1996
Publication date： Sep. 09, 1997
Summary：

【要約】【課題】電子ビーム露光装置等の試料の静電吸着装置において、試料の保持力を高めると共に試料へ異物の付着を軽減する。【解決手段】保持すべき試料13と電極7との間に誘電体層10を挟んで試料13と電極7との間に電圧15を印加することによって試料13を誘電体層上面に吸着保持する静電吸着装置において、誘電体層上面が高さ2μm以上50μm以下の段差をもつ複数の突起11を設けて形成される。また、この静電吸着装置を電子ビーム露光装置の試料保持装置に使用する。【効果】保持面段差上面の面積を増加させずに吸着力を増加、または吸着力の減少なしに保持面段差上面の面積を減少させることができる。この結果、電子ビーム描画装置での描画時に保持面に倣った吸着状態で描画でき、かつ異物を挟み込む確率が低くなり、同時に電子ビーム描画装置の描画精度を向上できる。

Claim (excerpt)：

保持すべき試料と電極との間に誘電体層を挟み上記試料と上記電極との間に電圧を印加することによって、上記試料を上記誘電体層上面に吸着保持する静電吸着装置において、上記誘電体層上面が上記試料に接する複数の突起と上記試料に非接触の溝部とからなり、かつ上記試料に接する複数の突起先端面と上記溝部と段差さが上記溝部からの静電力が上記試料に有意に働く高さに設定されたことを特徴とする静電吸着装置。

IPC (5)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  G03F 1/14 ,  H01L 21/027 ,  H02N 13/00

FI (6)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D ,  G03F 1/14 Z ,  H02N 13/00 D ,  H01L 21/30 503 C ,  H01L 21/30 541 L