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J-GLOBAL ID：200903071008557365

アクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路

Inventor： 森田 正樹 ,  林田 茂 ,  田谷 昌人
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994175828
Publication number (International publication number)：1996041334
Application date： Jul. 27, 1994
Publication date： Feb. 13, 1996
Summary：

【要約】【目的】 耐熱性に優れ、かつ光スイッチングや変調等の光信号処理に優れたアクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路を提供する。【構成】 フッ素化ポリアミド酸及び電気光学材料を含むアクティブ光導波路用組成物であって、電気光学材料が一般式(I)【化1】(式中、Aはアクセプター性基を示し、Xはハロゲン原子を示す)で表される化合物であるアクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路。

Claim (excerpt)：

フッ素化ポリアミド酸及び電気光学材料を含むアクティブ光導波路用組成物であって、電気光学材料が一般式(I)【化1】(式中、Aはアクセプター性基を示し、Xはハロゲン原子を示す)で表される化合物であるアクティブ光導波路用組成物。

IPC (6)：

C08L 79/08 LRB ,  C08K 5/03 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/13 ,  G02F 1/03 501 ,  G02F 1/313

FI (3)：

G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-251564
  
• 特開平4-009807
  
• 特開平1-207724