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J-GLOBAL ID：200903071009320571

ガスハイドレート形成工程を含む混合ガスの組成制御方法及び濃縮方法

Inventor： 内田 努 ,  海老沼 孝郎 ,  成田 英夫 ,  長尾 二郎 ,  竹谷 敏
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Agent (1)： 池浦 敏明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001048983
Publication number (International publication number)：2002249790
Application date： Feb. 23, 2001
Publication date： Sep. 06, 2002
Summary：

【要約】【課題】 ガスハイドレートの形成に伴う気相および固相ハイドレート中の組成の時間変化を利用して、混合ガスの濃縮や組成制御を行う方法を提供する。【解決手段】 少なくとも2種のハイドレート形成性ガスを含む混合ガスの濃縮方法において、(i)該混合ガスを、そのハイドレートが形成される条件下で水と反応させて固体状のガスハイドレートを形成させるガスハイドレート形成工程と、(ii)該生成したガスハイドレートを該混合ガスから分離するガスハイドレート分離工程と、(iii)該分離されたガスハイドレートを分解ガス化させるガス化工程、とからなり、該ガス化工程で得られた混合ガスを用いて、前記ガスハイドレート形成工程(i)、ガスハイドレート分離工程(ii)及びガス化工程(iii)からなる一連の工程を繰り返し行うことを特徴とする混合ガスの濃縮方法。

Claim (excerpt)：

少なくとも2種のハイドレート形成性ガスを含む混合ガスの組成を制御する方法において、該混合ガスを、そのハイドレートが形成される条件下で水と反応させて該混合ガスのハイドレートを形成させることからなり、該反応時間により、該混合ガスの組成を制御することを特徴とする混合ガスの組成制御方法。

IPC (2)：

C10L 3/10 ,  B01J 19/00

FI (2)：

B01J 19/00 A ,  C10L 3/00 K

F-Term (9)：

4G075AA03 ,  4G075AA61 ,  4G075BB01 ,  4G075BD13 ,  4G075CA65 ,  4G075DA01 ,  4G075EA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EC11