Pat
J-GLOBAL ID：200903071022219677

真空容器及びその製造方法

Inventor：
大園 俊一

About 大園 俊一


Applicant, Patent owner：
京セラ株式会社

About 京セラ株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000160569
Publication number (International publication number)：2001102365
Application date： May. 30, 2000
Publication date： Apr. 13, 2001
Summary：
【要約】【課題】ハロゲン系腐食性ガスとの反応によって生成されるハロゲン化物などの反応生成物がパーティクルとして剥がれ落ちるまでの時間を長くして、定期的に行うメンテナンス回数を減らすことにより稼働効率を高めることのできる真空容器を提供する。【解決手段】チャンパやベルジャをなす真空容器の少なくともハロゲン系腐食性ガス及び、又はプラズマに曝される部位を、イツトリアとアルミナの化合物を主成分とする焼結体で形成し、その内壁面に表面粗さがRa1.5〜10μmの粗面部を備える。
Claim (excerpt)：
成膜装置やエッチング装置等における真空容器であって、腐食性ガスやプラズマに曝される部位がイットリアとアルミナの化合物を主成分とする焼結体からなり、その内面に表面粗さ(Ra)が1.5〜10μmの粗面部を備えたことを特徴とする真空容器。
IPC (6)：
H01L 21/3065 ,  B01J 3/00 ,  C04B 35/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46
FI (6)：
B01J 3/00 K ,  C04B 35/44 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B
F-Term (29)：
4G031AA07 ,  4G031AA08 ,  4G031AA12 ,  4G031AA29 ,  4G031BA01 ,  4G031BA26 ,  4G031GA06 ,  4G031GA15 ,  4K057DA19 ,  4K057DD01 ,  4K057DD03 ,  4K057DM01 ,  4K057DM29 ,  4K057DN01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB29 ,  5F004BB30 ,  5F004BD04 ,  5F004DA00 ,  5F004DA04 ,  5F004DA18 ,  5F045AA09 ,  5F045BB15 ,  5F045DP03 ,  5F045EB03 ,  5F045EC05 ,  5F045EH11
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM