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J-GLOBAL ID：200903071023684365

流体処理装置

Inventor： 垣谷 勉 ,  横関 一郎 ,  上村 幸三 ,  井上 昭浩 ,  吉川 和彦 ,  空閑 圭介 ,  米沢 昭弘 ,  中山 芳夫
Applicant, Patent owner： 東芝ライテック株式会社 ,  株式会社東芝
Agent (1)： 本田 崇
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996178310
Publication number (International publication number)：1998015546
Application date： Jul. 08, 1996
Publication date： Jan. 20, 1998
Summary：

【要約】【課題】 無電極の発光管を用いた流体処理装置において簡単な構成で処理能力を高めて大量の流体を均一に処理する。【解決手段】 複数の細長い発光管1がパイプ4内に平行に配置され、パイプ40の回りに誘導コイル2が巻回されている。誘導コイル2には1MHz以上の高周波電力が高周波電源3から印加され、誘導コイル2からの磁界により発光管1内の放電ガスが放電、点灯してUV光を発する。パイプ4内には水や有機溶媒などの流体5が流れ、流体5に対してUV光を曝露することにより殺菌、高分子化などの処理を行う。

Claim (excerpt)：

処理対象の流体を流すためのパイプと;前記パイプ内において平行に配置された複数の細長い無電極の発光管と;前記パイプの回りに巻回された誘電コイルと;前記誘電コイルに対して高周波電圧を印加する高周波電源と;を有する流体処理装置。

IPC (2)：

C02F 1/30 ,  H01J 65/04

FI (2)：

C02F 1/30 ,  H01J 65/04 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特開昭50-066952